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크롬의 크롬 도금에 대 한 프로세스 작업 요구 사항을 도금 피스톤 막대

Nov 26, 2018

크롬 도금 피스톤 로드는 높은 착용 저항 및 다양 한 응용 프로그램 범위, 실용적인 애플 리 케이 션에서 좋은 결과 얻을 수 있습니다. 처리 과정에서 크롬 도금 피스톤 로드는 복잡 한 음극 프로세스 및 큰 음극 전기 도금 과정에서 현재 이며 지방 소비 수소 발전 및 2에 6가 크롬의 복구에 3가 크롬, 크롬 도금 음극 전류 효율은 매우 높은의 하위 반응. 낮은.

 

일반적으로, 크롬 도금 크롬 도금 피스톤 로드, SO42-, SiF62-와 같은 음이온의 일정 금액의 과정 동안 등 필요 크롬 도금 금속 크롬;의 정상적인 축적 완료 하려면 솔루션에 추가 크롬 도금 액체의 분산 매우 낮을 수 있다, 그리고 모양이 복잡 하다. 부품, pictographic 양극 또는 보조 음극은 평균 크롬 도금 층을 얻기 위해 필요 합니다. 옷걸이 대 한 요구는 또한 매우 엄격 합니다.

 

동시에 크롬 도금 크롬 도금 피스톤 로드의 과정 또한 제어 일반 도금 종류 보다 10 배 높은 높은 음극 전류 밀도 보장 하기 위해 필요 합니다. 때문에 많은 양의 가스는 음극과 양극에서 진화는, 도금 솔루션의 저항 큰 셀 압력 증가 이며, 도금 전원 공급 요청은 높은, 그리고 l2V, 필요한 것 보다 더 큰 전원 및 기타 도금 자료 8 V의 전원 공급 장치 또는 less.http://www.xhychromerod.com/와 함께 사용할 수 있습니다.


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